SiC Wafer လှေ
ဆီလီကွန်ကာဘိုင် wafer လှေနေရောင်ခြည်နှင့် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပျံပျံ့နှံ့မှုဖြစ်စဉ်များတွင် အဓိကအားဖြင့် wafers အတွက် ဝန်ထမ်းကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။၎င်းတွင် ဝတ်ဆင်မှုခံနိုင်ရည်၊ ချေးခံနိုင်ရည်၊ အပူချိန်မြင့်မားသော သက်ရောက်မှုခံနိုင်ရည်၊ ပလာစမာဗုံးဒဏ်ခံနိုင်ရည်၊ မြင့်မားသောအပူချိန်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ မြင့်မားသောအပူစီးကူးမှု၊ မြင့်မားသောအပူကို စွန့်ထုတ်ခြင်းနှင့် ရေရှည်အသုံးပြုရန် မလွယ်ကူသော ကွေးညွှတ်ခြင်းနှင့် ပုံပျက်ခြင်းတို့ကို ခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ကျွန်ုပ်တို့၏ကုမ္ပဏီသည် ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းကိုသေချာစေရန်နှင့် စိတ်ကြိုက်ဒီဇိုင်းများ ပံ့ပိုးပေးရန်အတွက် သန့်စင်မှုမြင့်မားသော ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ပစ္စည်းကို အသုံးပြုပါသည်။ဒေါင်လိုက်နှင့် အလျားလိုက် အမျိုးမျိုးwafer လှေ.
SiC Paddle
ဟိဆီလီကွန် ကာဗိုက် cantilever လှော်တက်မြင့်မားသောအပူချိန်တွင် ဆီလီကွန် wafers များကို တင်ဆောင်ခြင်းနှင့် သယ်ယူပို့ဆောင်ခြင်းတွင် အရေးပါသော အခန်းကဏ္ဍမှပါဝင်သည့် ဆီလီကွန် wafers များ (ပျံ့နှံ့မှု) တွင် အဓိကအားဖြင့် အသုံးပြုပါသည်။၎င်းသည် အဓိကကျသော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။semiconductor waferloading စနစ်များနှင့် အောက်ပါ အဓိက လက္ခဏာများ ရှိသည်။
1. ၎င်းသည် မြင့်မားသောအပူချိန်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် ပုံပျက်မသွားဘဲ wafers များပေါ်တွင် မြင့်မားသော loading force ပါရှိသည်။
2. ၎င်းသည် အလွန်အမင်းအေးပြီး လျင်မြန်သော အပူဒဏ်ကို ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး တာရှည်ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်းရှိသည်။
3. အပူတိုးချဲ့ကိန်းသည် သေးငယ်သည်၊ ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုနှင့် သန့်ရှင်းရေးစက်ဝန်းကို အလွန်တိုးချဲ့ကာ လေထုညစ်ညမ်းမှုကို သိသိသာသာ လျှော့ချပေးသည်။
SiC Furnace Tube
ဆီလီကွန်ကာဗိုက်လုပ်ငန်းစဉ်ပြွန်သတ္တုအညစ်အကြေးများမပါဘဲ သန့်စင်မြင့် SiC ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသောကြောင့် wafer ကိုညစ်ညမ်းစေခြင်းမရှိသည့်အပြင် semiconductor နှင့် photovoltaic diffusion၊ annealing နှင့် oxidation process ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်ပါသည်။
SiC စက်ရုပ်လက်မောင်း
SiC စက်ရုပ်လက်တံwafer transfer end effector ဟုလည်းလူသိများသော၊ semiconductor wafers များကိုသယ်ယူပို့ဆောင်ရန်အတွက်အသုံးပြုသောစက်ရုပ်လက်တံဖြစ်ပြီး semiconductor၊ optoelectronic နှင့် solar energy လုပ်ငန်းများတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုပါသည်။မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှုရှိသော ဆီလီကွန်ကာဗိုက်ကို အသုံးပြု၍ မြင့်မားသော မာကျောမှု၊ ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ငလျင်ဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိမှု၊ ပုံပျက်ခြင်းမရှိဘဲ ရေရှည်အသုံးပြုမှု၊ တာရှည်ဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်း၊ စသည်တို့ကို စိတ်ကြိုက်ဝန်ဆောင်မှုများ ပေးနိုင်ပါသည်။
ကြည်လင်ကြီးထွားမှုအတွက် ဂရပ်ဖိုက်
Graphite အပူအကာ
ဂရပ်ဖိုက်လျှပ်ကူးပစ္စည်းပြွန်
Graphite deflector
ဖိုက်တင်ချပ်
semiconductor crvstals ကြီးထွားမှုအတွက် အသုံးပြုသည့် လုပ်ငန်းစဉ်အားလုံးသည် အပူချိန်မြင့်ပြီး အဆိပ်သင့်သော ပတ်ဝန်းကျင်တွင် လုပ်ဆောင်သည်။ပုံဆောင်ခဲကြီးထွားမီးဖို၏ ပူသောဇုန်သည် အများအားဖြင့် အပူဒဏ်ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ချေးခံနိုင်ရည်မြင့်မားသော သန့်စင်မှုဖြင့် တည်ဆောက်ထားသည်။ဂရပ်ဖိုက်အပူပေးစက်များ၊ Crucibles၊ ဆလင်ဒါများ၊ deflector၊ chucks၊ ပြွန်များ၊ ကွင်းများ၊ ကိုင်ဆောင်သူများ၊ အခွံမာသီးများ၊ စသည်တို့သည် ကျွန်ုပ်တို့၏ကုန်ချောထုတ်ကုန်တွင် ပြာပါဝင်မှု 5ppm ထက်နည်းသော ပြာပါဝင်မှုကို ရရှိနိုင်ပါသည်။
Semidonductor Epitaxy အတွက် Graphite
ဖိုက်တင်အခြေစိုက်စခန်း
Graphite Epitaxial Barrel
Monocry Staline Silicon Epitaxial အခြေစိုက်စခန်း
MOCVD Graphite အစိတ်အပိုင်းများ
Semiconductor Graphite Fixture
Epitaxial လုပ်ငန်းစဉ်သည် တစ်ခုတည်းသော ပုံဆောင်ခဲအလွှာတစ်ခုပေါ်ရှိ ပုံဆောင်ခဲတစ်ခုမှ အရာဝတ္ထုတစ်ခု ကြီးထွားလာမှုကို ရည်ညွှန်းသည်။၎င်းသည် အလွန်မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သော ဂရပ်ဖိုက်အစိတ်အပိုင်းများနှင့် SIC အပေါ်ယံပိုင်းဖြင့် ဂရပ်ဖိုက်အခြေခံများစွာ လိုအပ်ပါသည်။တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း epitaxy အတွက်အသုံးပြုသော မြင့်မားသောသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောဂရပ်ဖိုက်သည် ကျယ်ပြန့်သောအသုံးချပရိုဂရမ်များပါရှိပြီး၊ တစ်ချိန်တည်းမှာပင်၊ ၎င်းသည် အလွန်မြင့်မားသည်။သန့်ရှင်းမှု၊ ယူနီဖောင်းအပေါ်ယံပိုင်း၊ အကောင်းဆုံးဝန်ဆောင်မှုသက်တမ်း၊ အလွန်မြင့်မားသော ဓာတုခံနိုင်ရည်နှင့် အပူတည်ငြိမ်မှု။
လျှပ်ကာပစ္စည်းနှင့်အခြား
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည့် အပူလျှပ်ကာပစ္စည်းများမှာ ဂရပ်ဖိုက်မာကျောသောခံစားမှု၊ ပျော့ပျောင်းသောခံစားမှု၊ ဂရက်ဖိုက်သတ္တုပြား၊ ကာဗွန်ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းများ စသည်တို့ဖြစ်သည်။ ကျွန်ုပ်တို့၏ကုန်ကြမ်းများသည် တင်သွင်းလာသော ဂရပ်ဖိုက်ပစ္စည်းများဖြစ်ပြီး သုံးစွဲသူများ၏ သတ်မှတ်ချက်အတိုင်း ဖြတ်တောက်နိုင်သည့် ပစ္စည်းများအဖြစ် ရောင်းချနိုင်သည်။ တကိုယ်လုံး။ကာဗွန်ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းကို အများအားဖြင့် ဆိုလာမိုနိုကင်နှင့် ပိုလီဆီကွန်ဆဲလ်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်အတွက် သယ်ဆောင်သူအဖြစ် အသုံးပြုသည်။