Photoresist ကို optoelectronic သတင်းအချက်အလက်စက်မှုလုပ်ငန်းတွင် ကောင်းမွန်သော ဂရပ်ဖစ်ဆားကစ်များ လုပ်ဆောင်ခြင်းနှင့် ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုပါသည်။ photolithography လုပ်ငန်းစဉ်၏ကုန်ကျစရိတ်သည် ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်ရေးလုပ်ငန်းစဉ်တစ်ခုလုံး၏ 35% ခန့်ရှိပြီး အချိန်သုံးစွဲမှုမှာ chip process တစ်ခုလုံး၏ 40% မှ 60% အထိဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ထုတ်လုပ်မှုတွင် အဓိက လုပ်ငန်းစဉ်ဖြစ်သည်။ Photoresist ပစ္စည်းများသည် ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်သည့်ပစ္စည်းများ၏ စုစုပေါင်းကုန်ကျစရိတ်၏ 4% ခန့်ရှိပြီး ဆီမီးကွန်ဒတ်တာပေါင်းစပ်ပတ်လမ်းထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက် အဓိကပစ္စည်းများဖြစ်သည်။
တရုတ်နိုင်ငံ၏ photoresist စျေးကွက်တိုးတက်မှုနှုန်းသည်နိုင်ငံတကာအဆင့်ထက်ပိုမိုမြင့်မားသည်။ Prospective Industry Research Institute မှ အချက်အလက်များအရ၊ ၂၀၁၉ ခုနှစ်တွင် ကျွန်ုပ်နိုင်ငံ၏ ဒေသန္တရ photoresist ထောက်ပံ့မှုသည် ယွမ် ၇ ဘီလီယံခန့်ရှိပြီး ၂၀၁၀ ခုနှစ်မှစ၍ ဒြပ်ပေါင်းတိုးတက်မှုနှုန်းသည် ကမ္ဘာ့တိုးတက်မှုနှုန်းထက် 11% သို့ ရောက်ရှိခဲ့သည်။ သို့သော်လည်း ပြည်တွင်းထောက်ပံ့မှုသည် ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာဝေစု၏ 10% ခန့်သာရှိပြီး ပြည်တွင်းအစားထိုးမှုသည် နိမ့်ကျသော PCB photoresists အတွက် အဓိကအားဖြင့် အောင်မြင်ခဲ့သည်။ LCD နှင့် semiconductor အကွက်များတွင် ဓါတ်တိုးခုခံမှု လုံလောက်မှုနှုန်းသည် အလွန်နည်းပါးပါသည်။
Photoresist သည် မျက်နှာဖုံးပုံစံကို အလွှာသို့ လွှဲပြောင်းရန် အလင်းတုံ့ပြန်မှုပြီးနောက် ကွဲပြားသောပျော်ဝင်နိုင်စွမ်းကို အသုံးပြုသည့် ဂရပ်ဖစ်ကူးပြောင်းမှုကြားခံတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းကို အဓိကအားဖြင့် ဓါတ်ပြုလွယ်သော အေးဂျင့် (photoinitiator)၊ ပေါ်လီမာဆာ (photosensitive resin)၊ ဓာတုပစ္စည်းနှင့် ပေါင်းထည့်သောပစ္စည်းများဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသည်။
Photoresist ၏ ကုန်ကြမ်းများမှာ အဓိကအားဖြင့် အစေး၊ ဓာတုပစ္စည်းနှင့် အခြားသော ဖြည့်စွက်ပစ္စည်းများ ဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့အနက်၊ အများစုသည် ယေဘုယျအားဖြင့် 80% ထက်ပိုသော အချိုးအစားအတွက် ပျော်ရည်ပါဝင်ပါသည်။ အခြားသော additives များသည် ဒြပ်ထု၏ 5% ထက်နည်းသော်လည်း၊ photosensitizers၊ surfactants နှင့် အခြားပစ္စည်းများအပါအဝင် photoresist ၏ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများကို ဆုံးဖြတ်ပေးသည့် အဓိကပစ္စည်းများဖြစ်သည်။ photolithography လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ photoresist ကို ဆီလီကွန် wafers၊ glass နှင့် metal ကဲ့သို့သော မတူညီသော အလွှာများတွင် အညီအမျှ ဖုံးအုပ်ထားသည်။ ထိတွေ့မှု၊ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုနှင့် ထွင်းထုပြီးနောက်၊ မျက်နှာဖုံးပေါ်ရှိ ပုံစံကို မျက်နှာဖုံးနှင့် လုံး၀ကိုက်ညီသည့် ဂျီဩမေတြီပုံစံပုံစံတစ်ခုအဖြစ် ရုပ်ရှင်သို့ လွှဲပြောင်းပေးပါသည်။
Photoresist သည် ၎င်း၏ downstream application fields အရ semiconductor photoresist၊ panel photoresist နှင့် PCB photoresist တို့ကို အမျိုးအစားသုံးမျိုးခွဲခြားနိုင်သည်။
semiconductor photoresist
လက်ရှိအချိန်တွင် KrF/ArF သည် ပင်မလုပ်ငန်းဆောင်တာပစ္စည်းဖြစ်နေဆဲဖြစ်သည်။ ပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှ၊ photolithography နည်းပညာသည် G-line (436nm) lithography၊ H-line (405nm) lithography၊ I-line (365nm) lithography၊ နက်နဲသော ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် DUV lithography (KrF248nm နှင့် ArF193nm) မှ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာခဲ့ပါသည်။ 193nm နှစ်မြှုပ်ခြင်းအပြင် ပုံရိပ်ဖော်နည်းပညာမျိုးစုံ (32nm-7nm)၊ ထို့နောက် အလွန်အမင်း ခရမ်းလွန်ရောင်ခြည် (EUV၊ <13.5nm) အလင်းရုပ်ပုံရိုက်နည်း၊ အလင်းပြန်ခြင်းမဟုတ်သော (အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ထိတွေ့မှု၊ အိုင်းယွန်းအလင်းတန်းထိတွေ့မှု) နှင့် အလင်းဝင်နိုင်သော လှိုင်းအလျားများအဖြစ် သက်ဆိုင်ရာ လှိုင်းအလျားများဖြင့် ဓါတ်ပုံရိုက်ခြင်း အမျိုးအစား အမျိုးမျိုးတို့လည်း ရှိခဲ့သည်။ လျှောက်ထားသည်။
photoresist စျေးကွက်သည် စက်မှုလုပ်ငန်း၏ အာရုံစူးစိုက်မှု မြင့်မားသည်။ ဂျပန်ကုမ္ပဏီများသည် semiconductor photoresists နယ်ပယ်တွင် လုံးဝအားသာချက်ရှိသည်။ အဓိက semiconductor photoresist ထုတ်လုပ်သူများတွင် Tokyo Ohka၊ JSR၊ Sumitomo Chemical၊ Shin-Etsu Chemical၊ တောင်ကိုရီးယားရှိ Dongjin Semiconductor၊ အမေရိကန်ရှိ DowDuPont နှင့် ဂျပန်ကုမ္ပဏီများသည် စျေးကွက်ဝေစု၏ 70% ခန့်ကို သိမ်းပိုက်ထားသည်။ ထုတ်ကုန်များနှင့် ပတ်သက်၍ Tokyo Ohka သည် g-line/i-line နှင့် Krf photoresists နယ်ပယ်များတွင် စျေးကွက်ဝေစု 27.5% နှင့် 32.7% အသီးသီးဖြင့် ဦးဆောင်နေသည်။ JSR သည် Arf photoresist နယ်ပယ်တွင် အမြင့်ဆုံးစျေးကွက်ဝေစုဖြစ်ပြီး 25.6% ရှိသည်။
Fuji Economic မှ ခန့်မှန်းချက်များအရ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ ArF နှင့် KrF ကော်ထုတ်နိုင်မှုသည် 2023 ခုနှစ်တွင် တန်ချိန် 1,870 နှင့် 3,650 သို့ရောက်ရှိရန် မျှော်လင့်ထားပြီး စျေးကွက်အရွယ်အစားမှာ ယွမ် 4.9 ဘီလီယံနှင့် 2.8 ဘီလီယံနီးပါးရှိသည်။ photoresist အပါအဝင် Japan photoresist ခေါင်းဆောင် JSR နှင့် TOK တို့၏ စုစုပေါင်းအမြတ်အမြတ်မှာ 40% ခန့်ဖြစ်ပြီး photoresist ကုန်ကြမ်းများ၏ကုန်ကျစရိတ်မှာ 90% ခန့်ရှိသည်။
ပြည်တွင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ဓါတ်ပုံရိုက်ခံထုတ်လုပ်သူများတွင် Shanghai Xinyang၊ Nanjing Optoelectronics၊ Jingrui Co., Ltd.၊ Beijing Kehua နှင့် Hengkun Co., Ltd.၊ လက်ရှိတွင် Beijing Kehua နှင့် Jingrui Co., Ltd. မှသာလျှင် KrF photoresist အမြောက်အမြား ထုတ်လုပ်နိုင်စွမ်းရှိသည်။ နှင့် Beijing Kehua ၏ ထုတ်ကုန်များကို SMIC သို့ ထောက်ပံ့ပေးခဲ့သည်။ Shanghai Xinyang တွင် တည်ဆောက်ဆဲ တစ်နှစ်လျှင် တန်ချိန် 19,000 တန် ArF (အခြောက်ခံခြင်း) photoresist ပရောဂျက်သည် 2022 ခုနှစ်တွင် ထုတ်လုပ်မှု အပြည့်အဝရောက်ရှိရန် မျှော်လင့်ထားသည်။
Panel photoresist
Photoresist သည် LCD panel ထုတ်လုပ်မှုအတွက် အဓိကကျသော ပစ္စည်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ မတူညီသောအသုံးပြုသူများအရ ၎င်းကို RGB ကော်၊ BM ကော်၊ OC ကော်၊ PS ကော်၊ TFT ကော် စသဖြင့် ခွဲခြားနိုင်သည်။
Panel photoresists တွင် အဓိကအားဖြင့် အမျိုးအစား လေးခုပါဝင်သည်- TFT ဝါယာကြိုးဖြင့် ဓာတ်ပုံရိုက်ခြင်း၊ LCD/TP spacer photoresists၊ colour photoresists နှင့် black photoresists တို့ဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့အနက် TFT ဝါယာကြိုးကို ITO ဝါယာကြိုးအတွက် အသုံးပြုကြပြီး LCD/TP မိုးရွာသွန်းမှု ဓာတ်ပုံရိုက်ခြင်းကို LCD ၏ မှန်အလွှာနှစ်ခုကြားရှိ အရည်ပုံဆောင်ပစ္စည်း၏ အထူကို ထိန်းသိမ်းရန်အတွက် အသုံးပြုပါသည်။ Color photoresists နှင့် black photoresists များသည် color filters များကို color rendering functions များပေးနိုင်ပါသည်။
panel photoresist စျေးကွက်တည်ငြိမ်ရန်လိုအပ်ပြီး colour photoresists ၏ဝယ်လိုအားက ဦးဆောင်နေသည်။ ကမ္ဘာ့ရောင်းအား တန်ချိန် 22900 နှင့် 2022 တွင် ရောင်းအား US$ 877 million ထိရှိလာမည်ဟု ခန့်မှန်းထားသည်။
TFT panel photoresists၊ LCD/TP spacer photoresists နှင့် black photoresist တို့သည် 2022 ခုနှစ်တွင် US$ 321 million၊ US$ 251 million နှင့် US$ 199 million အသီးသီးရောက်ရှိရန် မျှော်လင့်ပါသည်။ Zhiyan Consulting ၏ ခန့်မှန်းချက်အရ၊ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ panel photoresist သည် စျေးကွက်အရွယ်အစားသို့ ရောက်ရှိမည်ဖြစ်ပါသည်။ တိုးတက်မှုနှုန်း 4% ဖြင့် 2020 ခုနှစ်တွင် ယွမ် 16.7 ဘီလီယံ ကျွန်ုပ်တို့၏ ခန့်မှန်းချက်များအရ၊ photoresist စျေးကွက်သည် 2025 ခုနှစ်တွင် ယွမ် 20.3 ဘီလီယံအထိ ရောက်ရှိမည်ဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့အနက် LCD လုပ်ငန်းဗဟိုဌာနကို လွှဲပြောင်းခြင်းဖြင့်၊ ကျွန်ုပ်၏နိုင်ငံရှိ LCD photoresist ၏ စျေးကွက်အရွယ်အစားနှင့် ဒေသန္တရပြုမှုနှုန်းသည် တဖြည်းဖြည်း တိုးလာမည်ဟု မျှော်လင့်ပါသည်။
PCB photoresist
PCB photoresist ကို coating method အရ UV curing ink နှင့် UV spray ink ဟူ၍ ခွဲခြားနိုင်သည်။ လက်ရှိအချိန်တွင်၊ ပြည်တွင်း PCB မှင်ရောင်းချသူများသည် ပြည်တွင်းအစားထိုးမှုကို တဖြည်းဖြည်းရရှိလာကာ Rongda Photosensitive နှင့် Guangxin Materials ကဲ့သို့သော ကုမ္ပဏီများသည် PCB မင်၏ အဓိကနည်းပညာများကို ကျွမ်းကျင်လာကြသည်။
ပြည်တွင်း TFT photoresist နှင့် semiconductor photoresist တို့သည် ကနဦးရှာဖွေရေးအဆင့်တွင် ရှိနေဆဲဖြစ်သည်။ Jingrui Co., Ltd.၊ Yak Technology၊ Yongtai Technology၊ Rongda Photosensitive၊ Xinyihua၊ China Electronics Rainbow နှင့် Feikai Materials အားလုံးတွင် TFT photoresist နယ်ပယ်တွင် layout များရှိသည်။ ၎င်းတို့အနက် Feikai Materials နှင့် Beixu Electronics တို့သည် တစ်နှစ်လျှင် တန်ချိန် 5,000 အထိ ထုတ်လုပ်မှု စွမ်းရည်ကို စီစဉ်ထားသည်။ Yak Technology သည် LG Chem ၏ colour photoresist ဌာနခွဲကို ရယူပြီး ချန်နယ်များနှင့် နည်းပညာများတွင် အားသာချက်များရှိသည်။
photoresist ကဲ့သို့သော အလွန်မြင့်မားသော နည်းပညာဆိုင်ရာ အတားအဆီးများရှိသော စက်မှုလုပ်ငန်းအတွက်၊ နည်းပညာအဆင့်တွင် အောင်မြင်မှုများရရှိရန် အခြေခံအုတ်မြစ်ဖြစ်ပြီး ဒုတိယအနေဖြင့် semiconductor စက်မှုလုပ်ငန်း၏ လျင်မြန်သောဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းရန်အတွက် လုပ်ငန်းစဉ်များ စဉ်ဆက်မပြတ်တိုးတက်ရန် လိုအပ်ပါသည်။
ထုတ်ကုန်အချက်အလက်နှင့် တိုင်ပင်ဆွေးနွေးမှုအတွက် ကျွန်ုပ်တို့၏ဝဘ်ဆိုဒ်မှ ကြိုဆိုပါသည်။
တင်ချိန်- နိုဝင်ဘာ ၂၇-၂၀၂၄