Wafer Susceptor

Wafer Susceptorepitaxy လုပ်ငန်းစဉ်တွင် မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ Semicera သည် အကောင်းဆုံးဖြေရှင်းချက်များကို ပေးဆောင်သည်။Si Epitaxyနှင့်SiC Epitaxyတိကျသောဒီဇိုင်းနှင့် ထုတ်လုပ်မှုအားဖြင့် လုပ်ငန်းစဉ်များ။ ကျွန်ုပ်တို့၏ Wafer Susceptor သည် epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း တူညီသောအပူဖြန့်ဖြူးမှုကို သေချာစေပြီး monocrystalline silicon (Monocrystalline Silicon) အလွှာ၏ အပ်နှံမှုအရည်အသွေးကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေသည်။ အမျိုးအစားအမျိုးမျိုးတွင် ကောင်းစွာစွမ်းဆောင်နိုင်သည်။MOCVD Susceptorsနှင့်Barrel Susceptors များနှင့် အမျိုးမျိုးသော semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များအတွက် သင့်လျော်သည်။

Semicera ၏WaferSusceptor သည် အလွန်ကောင်းမွန်သော အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ချေးခံနိုင်ရည်ရှိသော စွမ်းအားမြင့်ပစ္စည်းများဖြင့် ပြုလုပ်ထားပြီး ရှုပ်ထွေးသော epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်အခြေအနေများအောက်တွင်ပင် အချိန်အကြာကြီး တည်ငြိမ်နေနိုင်သည်။ Si Epitaxy သို့မဟုတ် SiC Epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ဖြစ်စေ Semicera ၏ Susceptor သည် epitaxy ကြီးထွားမှုအတွင်း wafers များ၏ အရည်အသွေးညီညွတ်မှုကို သေချာစေရန်အတွက် တိကျသောအပူချိန်ထိန်းချုပ်မှုပံ့ပိုးမှုကို ပေးနိုင်ပါသည်။

ထို့အပြင်၊ အထူးသဖြင့် MOCVD Susceptor နှင့် Barrel Susceptor အပလီကေးရှင်းများတွင် စက်ပစ္စည်းအမျိုးမျိုးနှင့် သတ်မှတ်ချက်လိုအပ်ချက်များနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်အောင် Semicera ၏ Wafer Susceptor ကိုလည်း တိကျစွာ စီမံဆောင်ရွက်ထားပါသည်။ အလွန်ကောင်းမွန်သော ပစ္စည်းရွေးချယ်မှုနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်ထိန်းချုပ်မှုနှင့်အတူ၊ ကျွန်ုပ်တို့၏ထုတ်ကုန်များသည် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းဆောင်ရည်ကို တိုးတက်စေရုံသာမက လုပ်ငန်းစဉ်တွင် ချို့ယွင်းချက်နှင့် စွမ်းအင်သုံးစွဲမှုနှုန်းကိုလည်း သိသိသာသာ လျှော့ချပေးပါသည်။

ဆီမီးကွန်ဒတ်တာစက်မှုလုပ်ငန်းတွင် အလွန်တောင်းဆိုနေသော epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်များအတွက်၊ Semikera ၏ Wafer Susceptor သည် သင့်အတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုဖြစ်သည်။ R&D သို့မဟုတ် အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှုအတွက်ဖြစ်စေ ကျွန်ုပ်တို့၏ Wafer Susceptor သည် သုံးစွဲသူများအား Si Epitaxy နှင့် SiC Epitaxy လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် ပိုမိုယုံကြည်စိတ်ချရပြီး ပိုမိုကောင်းမွန်သော ပုံဆောင်ခဲပုံစံရရှိစေရန် ကူညီပေးနိုင်ပါသည်။