SOI Wafers

အတိုချုံးဖော်ပြချက်-

SOI wafer သည် အလွှာသုံးလွှာပါရှိသော အသားညှပ်ပေါင်မုန့်နှင့်တူသော ဖွဲ့စည်းပုံဖြစ်သည်။အပေါ်ဆုံးအလွှာ (စက်ပစ္စည်းအလွှာ)၊ မြှုပ်နှံထားသော အောက်ဆီဂျင်အလွှာ၏ အလယ် (SiO2 အလွှာအတွက်) နှင့် အောက်ခြေအလွှာ (ဆီလီကွန်အမြောက်အများ) ပါဝင်သည်။SOI wafers များကို SIMOX method နှင့် wafer bonding နည်းပညာဖြင့် ထုတ်လုပ်ထားပြီး၊ ပိုမိုပါးလွှာပြီး တိကျသော စက်အလွှာများ၊ တူညီသောအထူနှင့် ချို့ယွင်းသိပ်သည်းမှုနည်းပါးစေရန် ခွင့်ပြုပေးပါသည်။

ကျွန်ုပ်တို့ထံ အီးမေးလ်ပို့ပါ။

ထုတ်ကုန်အသေးစိတ်

ထုတ်ကုန်အမှတ်အသား

SOI Wafers (၁) ခု

လျှောက်လွှာအကွက်

1. မြန်နှုန်းမြင့် ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း

2. မိုက်ခရိုဝေ့ဖ် စက်များ

3. မြင့်မားသောအပူချိန် ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း

4. ပါဝါကိရိယာများ

5. ပါဝါနည်းသော ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း

6. MEMS

7. ဗို့အားနိမ့် ပေါင်းစပ်ပတ်လမ်း

ကုသိုလ်ကံ		ဆင်ခြေ
ခြုံ	Wafer Diameter 晶圆尺寸(မီလီမီတာ)	50/75/100/125/150/200mm ±25um
	ညွှတ်/ညွှတ် 翘曲度(	<10 အမ်
	မှုန် 颗粒度(	0.3um<30ea
	တိုက်ခန်းများ/ Notch 定位边/定位槽	Flat သို့မဟုတ် Notch
	အနားသတ် ဖယ်ထုတ်ခြင်း 边缘去除(mm)	/
စက်ပစ္စည်း အလွှာ 器件层	ကိရိယာ-အလွှာ အမျိုးအစား/ Dopant 器件层掺杂类型	N-Type/P-Type B/ P/ Sb / As
	ကိရိယာ-အလွှာကို ဦးတည်ချက် 器件层晶向	<1-0-0> / <1-1-1> / <1-1-0>
	ကိရိယာ-အလွှာ အထူ 器件层厚度(အွမ်)	0.1 ~ 300um
	ကိရိယာ-အလွှာ ခုခံနိုင်စွမ်း 器件层电阻率(ohm•cm)	0.001~100,000 ohm-cm
	Device-layer Particles များ 器件层颗粒度(	<30ea@0.3
	စက်ပစ္စည်း အလွှာ TTV 器件层TTV(	<10 အမ်
	စက်ပစ္စည်း အလွှာကို အပြီးသတ်ပါ။ 器件层表面处理	ပွတ်သည်။
သတျတော	မြှုပ်ထားသော အပူအောက်ဆိုဒ် အထူ 埋氧层厚度(အွမ်)	50nm(500Å)~15um
ကိုင်တွယ်အလွှာ 衬底	Wafer အမျိုးအစား / Dopant ကိုင်တွယ်ပါ။ 衬底层类型	N-Type/P-Type B/ P/ Sb / As
	Wafer Orientation ကို ကိုင်တွယ်ပါ။ 衬底晶向	<1-0-0> / <1-1-1> / <1-1-0>
	Wafer Resistivity ကို ကိုင်တွယ်ပါ။ 衬底电阻率(ohm•cm)	0.001~100,000 ohm-cm
	Wafer အထူကို ကိုင်တွယ်ပါ။ 衬底厚度(အွမ်)	> 100um
	Wafer Finish ကို ကိုင်တွယ်ပါ။ 衬底表面处理	ပွတ်သည်။
ပစ်မှတ်သတ်မှတ်ချက်များ၏ SOI wafers များကို ဖောက်သည်လိုအပ်ချက်အရ စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်သည်။